真空電鍍廠家給大家闡述真空電鍍是一種物理沉積現象，即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
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真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法，常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：可以利用電阻產生的熱能，也可以利用電子束。
在對塑料制品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等）從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。
通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與被鍍制品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落，厚度0.04時反射率為90%。
