真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
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對于傳統的濕發電鍍，真空電鍍具有以下優點：
1.沉積材料廣泛
可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可 以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據需要設計涂層體系。
2.節約金屬材料
由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優良，沉積的鍍層可以遠遠 小于常規濕法電鍍鍍層，達到節約的目的.
3.無環境污染
由于所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以 對環境的危害相當小.
但是由于獲得真空和等離子體的儀器設備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數技術人員手中，沒有大量被推廣，其投資和日常生產維護費用昂貴，但是隨著社會的不斷進步，真空電鍍的優勢會越來越明顯，在 某些行業取代傳統的濕法電鍍是大勢所趨！
